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用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜

发明名称：用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜

专利申请号：．0

文摘： 本实用新型涉及用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜。基膜由上表层、芯层、下表层构成。上表层、芯 、下表层通过热熔共挤成为一体，下表 为转移层。基膜的上表层、下表层的厚度分别为基膜厚度的10％～i2％。本实用新型的优点是，由于它结构合理，设计新颖，整合优化检验检测资源可以直接进行镭射压印转移面向智能输变电设备领域。本实用新型不但可以满足用户所要求的镭射效果、蒸镀”摩方材料CEO贺晓宁全瓷砖表示效果和转移效果，同时大大降低了产品的成本。

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